Colección SciELO Chile

Departamento Gestión de Conocimiento, Monitoreo y Prospección
Consultas o comentarios: productividad@anid.cl



Institución Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power (P4)

Publicaciones

Autores Identificados

Citas Totales

Instituciones en Colaboración

×

¿Quieres unificar este perfil a otros que correspondan al mismo autor? Recuerda, la unificación de perfiles permite fusionar las publicaciones, asociadas a distintas firmas, en una única firma llamada "base".
Esta operación no elimina las firmas de autor originales de una publicación. Tampoco altera otras bases de datos que no sean DataCiencia.

  • Paso 1: Pincha el botón de "Unificar Perfiles"
    • - Verás un listado de firmas en las cuales coincide el primer apellido y la primera letra del nombre. Costado izquierdo de la pantalla ("Sugerencias").
    • - Ese listado está acompañado de información sobre algunas publicaciones y afiliaciones.
  • Paso 2: Selecciona una firma como "Base". Escoge aquella firma más completa.
    • - Esta firma agrupará las publicaciones de las otras firmas.
    • - Por defecto, la primera firma del listado es la que contiene más publicaciones.
  • Paso 3: Selecciona una o varias firmas como "Agrupar".
    • - Las publicaciones y afiliaciones de estas firmas se añadirán a la firma base.
  • Paso 4: Ingresa tu correo electrónico.
    • - Este es un método de validación obligatorio.
    • - Solo una solicitud por correo electrónico.
  • Paso 5: Pincha el botón "Enviar solicitud".
    • - Recibirás un correo por tu solicitud la cual estará pendiente de evaluación.
    • - Recibirás un segundo correo cuando tu solicitud sea procesada de forma completa, parcial, o rechazada.


Continuar

* ¿Por qué es necesario unificar perfiles? Muchas veces las publicaciones vienen desde el origen (WoS, Scopus o SciELO) vinculadas a distintas firmas de autor a pesar de corresponder a las mismas personas.


Disciplinas de Investigación




Muestra la distribución de su producción desde 2008 por disciplinas.

Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

WOS #Pub
Physics, Fluids & Plasmas 5
Physics, Nuclear 2
Engineering, Multidisciplinary 1
Instruments & Instrumentation 1
Nuclear Science & Technology 1
Scopus #Pub
SciELO #Pub

Bases de Datos


Muestra la distribución de las publicaciones de la institución en las distintas bases de datos* (WoS, Scopus y SciELO-Chile).

Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

* Una misma publicación puede pertenecer a más de una base de datos.

Base de Datos #Publicaciones
WOS 7
Scopus 9
SciELO 0

Autores


Nombre Género #Pub

Muestra un listado ordenado de los autores afiliados a la institución en publicaciones desde 2008.

Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.



Muestra la distribución de los autores de la institución por género.
Para determinar el género de cada nombre de autor, afiliado a una institución nacional, se realiza un trabajo automático de detección a partir de un diccionario de nombres en constante actualización, además del trabajo interno realizado en los datos de forma permanente.

Es importante mencionar que si no se encuentra el nombre del autor en el diccionario (que está en permanente actualización) este no se contabiliza y su género es Indeterminado.

Porcentaje Indeterminados: 38.5 % del total de autores de esta institutición.

Muestra la productividad, basada en cantidad de publicaciones, de los autores afiliados a la institución.

Colaboración Institucional


Muestra la distribución de la colaboración de las instituciones Chilenas por tipo, en publicaciones desde 2008 en adelante.
Los tipos de colaboración se definen de la siguiente forma:

  • Sin colaboración: publicaciones en las cuales sólo participa la institución.
  • Internacional: además de la institución, hay autores de instituciones extranjeras.
  • Nacional: además de la institución, hay autores de otras instituciones chilenas.
  • Mixta: además de la institución, hay autores de otras instituciones chilenas y además extranjeras.

Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Muestra el número de publicaciones por tipo de colaboración en cada año desde 2008.

Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Distribución del Impacto WoS


Publicaciones Citas
Total Porcentaje Total Porcentaje Representativas Cuartil (Mediana)
Q1 1 12.5 % 7 7.3 % 7
Q2 5 62.5 % 77 80.2 % 12
Q3 2 25.0 % 12 12.5 % 6.0
Q4 0 0.0 % 0 0.0 %
Q1 Distribución disciplinas OECD / WoS
Q2 Distribución disciplinas OECD / WoS
Q3 Distribución disciplinas OECD / WoS
Q4 Distribución disciplinas OECD / WoS

Origen de Citas Identificadas


Muestra la distribución de países cuyos autores citan las publicaciones del Institución consultada.

Citas identificadas: Las citas provienen de documentos incluidos en la base de datos de DATACIENCIA

Citas Identificadas: 44.94 %
Citas No-identificadas: 55.06 %

Muestra la distribución de instituciones nacionales o extranjeras cuyos autores citan las publicaciones del Institución consultada.

Citas identificadas: Las citas provienen de documentos incluidos en la base de datos de DATACIENCIA

Citas Identificadas: 44.94 %
Citas No-identificadas: 55.06 %

Liderazgo


El liderazgo se define porque los autores pertenecientes a la Institución son primer autor o autor de correspondencia en las publicaciones con afiliación a esta institución.

Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Publicaciones


Título Año Citas
Multi Frame Digital Interferometry Using A Single Digital Record System Interferometría Digital Multicuadro Usando Un único Sistema De Registro Digital 2016 0
Digital Interferometry Applied To Transient Dense Plasmas 2012 4
Drive Parameter Of Neutron Optimized Dense Plasma Foci 2012 8
Potentiality Of A Small And Fast Dense Plasma Focus As Hard X Ray Source For Radiographic Applications 2012 27
Plasma Sheath Kinematics And Some Implications On The Modeling Of Very Low Energy Plasma Focus Devices 2012 12
Modelling Of The Internal Dynamics And Density In A Tens Of Joules Plasma Focus Device 2012 5
Correlations Among Neutron Yield And Dynamical Discharge Characteristics Obtained From Electrical Signals In A 400 J Plasma Focus 2012 26
A Necessary Experimental Discussion Concerning The X Rays' Plasma Focus Use For Radiographic Images Applications 2012 0
Non Intrusive Plasma Diagnostics For Measuring Sheath Kinematics In Plasma Focus Discharges 2012 7
Ver más publicaciones y descargar CSV

Listado ordenado de publicaciones desde 2008 y sus citas.

Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Descargar Descarga los datos de esta página (formato JSON).
Descargar Descarga los datos de esta página como un archivo Excel.









Departamento Gestión de Conocimiento, Monitoreo y Prospección
 Moneda 1375, Santiago de Chile. Teléfono (56 2) 2365 4400
Consultas o comentarios: productividad@anid.cl