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Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.
| Firmas del autor | |
| Nombre | VALDES, JORGE E. |
| Género | - |
| Área Principal WOS | Chemistry, Physical; Materials Science, Multidisciplinary; Nanoscience & Nanotechnology; |
| Afiliación Principal | Universidad Técnica Federico Santa María |
Publicaciones en Chile
Citas Totales
Afiliaciones Chilenas
| WOS | #Pub |
|---|---|
| Chemistry, Physical | 1 |
| Materials Science, Multidisciplinary | 1 |
| Nanoscience & Nanotechnology | 1 |
| Scopus | #Pub |
|---|
| SciELO | #Pub |
|---|
| Título | Año | Citas | Tipo | Revista | Indexada |
|---|---|---|---|---|---|
| Mechanism Of Oxygen Reduction <I>Via</I> Chemical Affinity In Ni O/Si O<Sub>2</Sub> Interfaces Irradiated With Ke V Energy Hydrogen And Helium Ions For Heterostructure Fabrication | 2024 | 0 | artículo de investigación | Nanoscale Horizons | WoS Scopus |
| Palabra Clave | #Pub |
|---|---|
| amorphization | 1 |
| devices | 1 |
| generation | 1 |
| oxides | 1 |
| radiation-damage | 1 |