Muestra la distribución de la producción WoS, Scopus y SciELO del autor.
Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.
| Firmas del autor | |
| Nombre | JAUREGUI, P. |
| Género | - |
| Área Principal WOS | |
| Afiliación Principal | Universidad De Santiago De Chile |
Publicaciones en Chile
Citas Totales
Afiliaciones Chilenas
| Autor | Género | # Pub |
|---|---|---|
| INESTROSA-IZURIETA, M. J. | Mujer | 1 |
| SOTO-NORAMBUENA, LEOPOLDO ALEJANDRO | Hombre | 1 |
| Año | Firma | Institución (Incites asoc.) | H Index | Average Percentile | Impact Citation | Impact Relative World | Impact Journal Normalized Citation | Impact Category Normalized Citation | Percentage Cited | Percentage Top 1 | Percentage Top 10 | Percentage Journal Q1 | Percentage Journal Q2 | Percentage Journal Q3 | Percentage Journal Q4 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 2019 | Jauregui, P. | Universidad de Santiago de Chile | 1.0 | 12.1 | 3.0 | 0.3 | 2.4 | 2.9 | 100.0 | 0.0 | 0.0 | 0.0 | 0.0 | 0.0 | 0.0 |
| Título | Año | Citas | Tipo | Revista | Indexada |
|---|---|---|---|---|---|
| Deposition Of Materials Using A Plasma Focus Of Tens Of Joules | 2016 | 4 | proceedings paper | Journal Of Physics: Conference Series | WoS Scopus |