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Measurements of plasma parameters in capacitively coupled radio frequency plasma from discharge characteristics: Correlation with optical emission spectroscopy
Indexado
WoS WOS:000322631400051
Scopus SCOPUS_ID:84885662332
DOI 10.1016/J.CAP.2013.04.024
Año 2013
Tipo artículo de investigación

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras


Abstract



Plasma parameters from the discharge characteristics of a 13.56 MHz capacitively coupled radio frequency Ar plasma are evaluated on the basis of homogeneous discharge model for wide range of operating pressure. The homogeneous discharge model of capacitively coupled radio frequency discharge is modified to take into account the nonlinear plasma series resonance effect. The effect of drift velocity of the electron due to change in radio frequency electric field and operating pressure is also considered. Considerable dependent of plasma parameters on the drift velocity of the electron as well as on the plasma series resonance effect are observed in low pressure. An irregular variation of calculated plasma density with operating pressure is observed, which is reconfirmed with optical emission spectroscopy. (C) 2013 Elsevier B.V. All rights reserved.

Revista



Revista ISSN
Current Applied Physics 1567-1739

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Disciplinas de Investigación



WOS
Physics, Applied
Materials Science, Multidisciplinary
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Materials Science (All)
Physics And Astronomy (All)
SciELO
Sin Disciplinas

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Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Colaboración Institucional



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Autores - Afiliación



Ord. Autor Género Institución - País
1 Bora, Biswajit Hombre Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
2 Bhuyan, Heman - Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
3 FAVRE-DOMINGUEZ, MARIO BENJAMIN Hombre Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
4 WYNDHAM-HODDER, EDMUNDO SYDENHAM Hombre Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
5 CHUAQUI-KETTLUN, HERNAN HUMBERTO - Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
6 MENDEZ-CACERES, NATALIA ANDREA Hombre Univ Malaya - Malasia

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Origen de Citas Identificadas



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Citas identificadas: Las citas provienen de documentos incluidos en la base de datos de DATACIENCIA

Citas Identificadas: 7.69 %
Citas No-identificadas: 92.31 %

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Citas identificadas: Las citas provienen de documentos incluidos en la base de datos de DATACIENCIA

Citas Identificadas: 7.69 %
Citas No-identificadas: 92.31 %

Financiamiento



Fuente
FONDECYT
University of Malaya

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Agradecimientos



Agradecimiento
The authors acknowledge the support of the FONDECYT 3110008 in undertaking this work. H. Bhuyan acknowledges the grant of FONDECYT 1130228. C.S. Wong is grateful to University of Malaya research grant RP008A-13AFR for support to enable him to participate in this research. The authors would like to recognize the scientific trajectory of the founder of the experimental plasma physics in Chile, Prof. H. Chuaqui, who passed away on July 27, 2012, during the peer review process of this paper.

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