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Effect of the polyacrylamide concentration on the quality of the copper deposit obtained by electrolytic refining
Indexado
WoS WOS:000331887300005
Scopus SCOPUS_ID:84894553119
DOI 10.3989/REVMETALM.1327
Año 2013
Tipo artículo de investigación

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras


Abstract



The effect of the additive non ionic polyacrylamide (PAM), was studied at the laboratory level, as refining crystalline grain in the copper electrorefining. Experiments were performed 24 h of electrolysis, using an electrolyte of copper sulphate acid, with 0.5 to 10 mgl(-1) polyacrylamide at 55 degrees C and a current density of 260 Am-2. The effectiveness of these organic additives in copper electrorefining was determined by directly measuring the surface roughness of the copper deposit and contrasted with the results of other instrumental techniques (SEM and metallographic analysis). The results of the analysis SEM, metallographic analysis and measurement of the surface roughness of the copper deposit, show that to concentrations as low as 0.5 mgl(-1) of this additive is manifested its property of tuner of grain. However, in the range of 7 to 10 mgl(-1) of polyacrylamide, it reaches an optimum size of grain for the deposit of copper in the cathodes.

Revista



Revista ISSN
Revista De Metalurgia 0034-8570

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Disciplinas de Investigación



WOS
Metallurgy & Metallurgical Engineering
Scopus
Materials Chemistry
Physical And Theoretical Chemistry
Condensed Matter Physics
Metals And Alloys
SciELO
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Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Colaboración Institucional



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Autores - Afiliación



Ord. Autor Género Institución - País
1 Aragon, J. - Universidad Arturo Prat - Chile
2 Ipinza, J. - Universidad Técnica Federico Santa María - Chile
3 Camus, Juan Hombre Universidad de Playa Ancha - Chile
4 Vargas, A. Hombre Universidad Arturo Prat - Chile
5 SAAVEDRA-NEIRA, RUBEN OSVALDO Hombre Universidad Arturo Prat - Chile

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Financiamiento



Fuente
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Agradecimientos



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