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Non-radioactive Source for Field Applications Based in a Plasma Focus of 2J: Pinch evidence
| Indexado |
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| DOI | 10.1088/1742-6596/511/1/012032 | ||||
| Año | 2014 | ||||
| Tipo | proceedings paper |
Citas Totales
Autores Afiliación Chile
Instituciones Chile
% Participación
Internacional
Autores
Afiliación Extranjera
Instituciones
Extranjeras
Abstract
A portable plasma focus for field applications operating at two joules have been designed and constructed. Pinch evidence in the current derivative signal have been obtained. Also the dependence of the time to pinch, t(p), over the filling pressure, p0, (tp alpha root p0) was observed. Therefore, the device is working as a plasma focus.
| Ord. | Autor | Género | Institución - País |
|---|---|---|---|
| 1 | SOTO-NORAMBUENA, LEOPOLDO ALEJANDRO | Hombre |
Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile Center for Research and Applications in Plasma Physics - Chile |
| 2 | PAVEZ-MORALES, CRISTIAN ARTURO | Hombre |
Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile Center for Research and Applications in Plasma Physics - Chile |
| 3 | MORENO-MARTINEZ, JOSE ALBERTO | Hombre |
Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile Center for Research and Applications in Plasma Physics - Chile |
| 4 | Pedreros, J. | Hombre |
Universidad de Santiago de Chile - Chile
|
| 5 | Altamirano, Luis | Hombre |
Dicontek Ltda - Chile
Dicontek Ltda. - Chile |
| 6 | IOP | Corporación |
