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Ion emission study using visible spectroscopy and ToF method in a plasma focus device of two kilojoules
Indexado
WoS WOS:000352108900023
Scopus SCOPUS_ID:84938151608
DOI 10.1088/1742-6596/591/1/012023
Año 2015
Tipo proceedings paper

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras


Abstract



Different studies have been developed in order to understand the dynamics and processes involved in the particle emission from plasma focus devices operating in the kilo-joule range. The use of chemical compound gasses and noble gas mixtures has proven to produce different charged particles, as well as increase the neutron yield from deuterium plasma discharges. Nevertheless, the processes and parameters involved in these discharges are not fully understood. In this work we will present results of visible spectroscopy and "time-of-flight" observations of the different ion species and ionization levels obtained in a 2kJ plasma focus device, when using deuterium or hydrogen with small percentage impurities.

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Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Colaboración Institucional



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Autores - Afiliación



Ord. Autor Género Institución - País
1 MORENO-MARTINEZ, JOSE ALBERTO Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
2 Morales, Diego Hombre Universidad Nacional Andrés Bello - Chile
3 AVARIA-SAAVEDRA, GONZALO FELIPE Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
4 Cuadrado, Osvaldo Hombre Universidad Austral de Chile - Chile
5 SOTO-NORAMBUENA, LEOPOLDO ALEJANDRO Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
6 VargasBlanco, I -
7 HerreraVelazquez, JJE -

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Financiamiento



Fuente
Sin Información

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Agradecimientos



Agradecimiento
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