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Graded Porosity Structures In High Entropy Alloys: An Innovative Synthesis Approach Utilizing Space-Holder Technique And Pressureless Spark Plasma Sintering
Indexado
Scopus SCOPUS_ID:85218499299
DOI 10.59499/EP246283678
Año 2024
Tipo

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras


Abstract



High entropy alloys (HEAs) are potential materials for biomedical applications due to their unique properties. Also, the use of functionally graded porous materials (FGPM) presents an interesting approach that could help to decrease the Young's modulus while simultaneously mimicking highly hierarchical porosity of the bone structure. In this study, Field Assisted Sintering Technology/Spark Plasma Sintering (FAST/SPS) and space-holder techniques were used to determine the viability of its use for produce HEAs which exhibit radially graded porous structures from Ti, Nb, Ta, Hf and Mo powders, using NH4HCO3 as space-holder. Results have shown that the radially porous gradient was formed when sintering at 1450°C and 10 min, but the sintering necks were not sufficient to provide adequate mechanical properties and achieve the desired porosity levels. Hence, future studies have to be carried out to determine the adequate sintering parameters to achieve good diffusion between particles.

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Colaboración Institucional



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Autores - Afiliación



Ord. Autor Género Institución - País
1 Chávez-Vásconez, Ricardo - Universidad Técnica Federico Santa María - Chile
Universidad de Sevilla - España
2 Acevedo, Nicolás - Universidad Técnica Federico Santa María - Chile
3 Arévalo, Cristina - Universidad de Sevilla - España
4 Sauceda-Martínez, Sergio - Universidad de Sevilla - España
Universidad de Concepción - Chile
5 Pérez-Soriano, Eva - Universidad de Sevilla - España
6 Torres, Yadir - Universidad de Sevilla - España
7 Farak, Sheila Lascano - Universidad Técnica Federico Santa María - Chile

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Financiamiento



Fuente
FONDEQUIP
Fondo Nacional de Desarrollo Científico y Tecnológico
Universidad Técnica Federico Santa María
Agencia Nacional de Investigacion y Desarrollo (ANID) of Chile government

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Agradecimientos



Agradecimiento
This work was supported by the Agencia Nacional de Investigaci\u00F3n y Desarrollo (ANID) of Chile government [FONDECYT 1231834, FONDEQUIP EQM 170156, Scholarship Program/DOCTORADO/2021-21211274 and Scholarship Program/DOCTORADO/2021-21210700], the funding of Direcci\u00F3n de Posgrado of Universidad T\u00E9cnica Federico Santa Mar\u00EDa by means of the Programa de Incentivo a la Iniciaci\u00F3n Cient\u00EDfica (PIIC) N\u00B0052/2021 and Beca de T\u00E9rmino de Tesis de Doctorado N\u00B0020/2024.

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