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A nonlinear global model of single frequency capacitively coupled plasma and its experimental validation
Indexado
WoS WOS:000435454600043
Scopus SCOPUS_ID:85045527951
DOI 10.1063/1.5022654
Año 2018
Tipo artículo de investigación

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras


Abstract



The behavior of a single frequency capacitively coupled plasma (CCP) driven by 13.56 MHz rf source is investigated using an approach that integrates a nonlinear global analytical model and experimental data. The non linear model consists of a description of the plasma bulk, based on a fluid dynamics approach coupled to a separate model of the sheath. The parameters used in the model are obtained by operating the single frequency CCP experiment (13.56 MHz) in argon at working pressures 73 to 400m torr. Experimentally measured plasma parameters such as the electron density, electron temperature, the discharge symmetry parameter as well as the rf voltage waveforms are the inputs of the theoretical model. Model results of the DC self bias and rf current for various operating pressures and powers are shown. A comparison of the outputs of the numerical results is done with the experimentally obtained values of the DC self bias and rf current. A good quantitative correspondence between them is obtained. The results presents may substantially improve the understanding of the behavior of the capacitively coupled plasma. (C) 2018 Author(s).

Revista



Revista ISSN
Aip Advances 2158-3226

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Disciplinas de Investigación



WOS
Physics, Applied
Materials Science, Multidisciplinary
Nanoscience & Nanotechnology
Scopus
Physics And Astronomy (All)
SciELO
Sin Disciplinas

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Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Colaboración Institucional



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Autores - Afiliación



Ord. Autor Género Institución - País
1 Saikia, P. - Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
2 Bhuyan, Heman - Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
3 Escalona, Miguel Hombre Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
4 FAVRE-DOMINGUEZ, MARIO BENJAMIN Hombre Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
5 Rawat, R. S. - Nanyang Technol Univ - Singapur
National Institute of Education - Singapur
6 WYNDHAM-HODDER, EDMUNDO SYDENHAM Hombre Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile

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Financiamiento



Fuente
FONDECYT
Fondo Nacional de Desarrollo Científico y Tecnológico
Fondo Nacional de Desarrollo Científico y Tecnológico

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Agradecimientos



Agradecimiento
Authors acknowledge FONDECYT grant 1170261 and 3160179. Many helpful suggestions from Dr. J. Schulze while preparing the manuscript are also acknowledged.
Authors acknowledge FONDECYT grant 1170261 and 3160179. Many helpful suggestions from Dr. J. Schulze while preparing the manuscript are also acknowledged.

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