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Incidence of Electric Field and Sulfuric Acid Concentration in Electrokinetic Remediation of Cobalt, Copper, and Nickel in Fresh Copper Mine Tailings
Indexado
WoS WOS:000915631800001
Scopus SCOPUS_ID:85146692351
DOI 10.3390/PR11010108
Año 2023
Tipo artículo de investigación

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras


Abstract



In the present study, the assessment of heavy metal contaminant migration from fresh mine tailings was conducted using the electrokinetic remediation technique (EKR). In this sense, a pilot EKR cell was designed to evaluate the recovery potential of copper, nickel, and cobalt species. In particular, the focus was on the impacts of electric field intensity and pH in initial mixture and testing their interaction in copper, nickel, and cobalt migration. Experiments were made using a 22 factorial experimental design with a central point, using DC electric fields from 1.0 to 2.0 V cm−1 and H2SO4 pretreatment solutions from 1.0 to 2.0 mol L−1, along with an ANOVA test with error reduction. The metal removal rates were approximately 7% for cobalt, neglectable for copper, and 6% for nickel. In the best cases, the highest concentrations by migration at the cathodic zone were 11%, 31%, and 30%, respectively. According to ANOVA tests, factor interaction was proven for each metal in the half cell near the cathode and the closest zone from the cathode specifically. Both factors affected metal concentrations, which indicates that when the goal aims for species accumulation in a narrower section, each factor has a significant effect, and their interaction makes a proven enhancement. Thus, using 2.0 V cm−1 and 2.0 mol L−1 showed a high improvement in metal concentration in the cathodic zone.

Revista



Revista ISSN
Processes 2227-9717

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Disciplinas de Investigación



WOS
Engineering, Chemical
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SciELO
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Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Colaboración Institucional



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Autores - Afiliación



Ord. Autor Género Institución - País
1 Ortiz-Soto, Rodrigo Hombre Pontificia Universidad Católica de Valparaíso - Chile
2 Leal, Daniela Mujer Universidad Técnica Federico Santa María - Chile
3 GUTIERREZ-CORDOVA, CLAUDIA Mujer Universidad Técnica Federico Santa María - Chile
4 ARACENA-CAIPA, ALVARO GONZALO Hombre Pontificia Universidad Católica de Valparaíso - Chile
5 LEON-MARTINEZ, MARCELO ANDRES Hombre Pontificia Universidad Católica de Valparaíso - Chile
6 Lazo, Andrea Mujer Universidad Técnica Federico Santa María - Chile
7 Lazo, Pamela Mujer Universidad de Valparaíso - Chile
8 Ottosen, Lisbeth M. Mujer Technical University of Denmark - Dinamarca
Tech Univ Denmark - Dinamarca
9 Hansen, Henrik K. Hombre Universidad Técnica Federico Santa María - Chile

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Financiamiento



Fuente
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Agradecimientos



Agradecimiento
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