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Ion beam measurement using Rogowski coils in a hundred of joules dense plasma focus device
Indexado
WoS WOS:000443419700042
Scopus SCOPUS_ID:84979584539
DOI 10.1088/1742-6596/720/1/012042
Año 2016
Tipo proceedings paper

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras


Abstract



In present work an effort has been made to measure the ion beams generated during experiment with PF-400J plasma focus device, using an array of two Rogowski coils with time of flight analysis. It was found that the coils measure the signals of beam for a particular range of operating pressure. The beam signals were recorded at 20, 15, 12, 10, 9,8,7,6 and 5 mbar filled pressure of hydrogen gas. The optimized pressure range for good plasma column formation for this device was found about 9 mbar. At 15 mbar no or very weak beam signals were observed by Rogowski coil which was kept relatively far from the top of the anode and at 20 mbar there were no beam signals observed in both of the coils. The calculated beam energy is found to have maximum value at 9 mbar of filled hydrogen gas pressure.

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Colaboración Institucional



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Autores - Afiliación



Ord. Autor Género Institución - País
1 Jain, Jalaj - Universidad de Talca - Chile
Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Com. Chilena Energia Nucl. - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
2 MORENO-MARTINEZ, JOSE ALBERTO Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Com. Chilena Energia Nucl. - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
3 PAVEZ-MORALES, CRISTIAN ARTURO Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Com. Chilena Energia Nucl. - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
4 Bora, Biswajit Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Com. Chilena Energia Nucl. - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
5 Inestrosa-Izurieta, M. J. Mujer Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Com. Chilena Energia Nucl. - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
6 AVARIA-SAAVEDRA, GONZALO FELIPE Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Com. Chilena Energia Nucl. - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
7 SOTO-NORAMBUENA, LEOPOLDO ALEJANDRO Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Com. Chilena Energia Nucl. - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
8 Gutierrez, G -
9 Roa, L -

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Origen de Citas Identificadas



Muestra la distribución de países cuyos autores citan a la publicación consultada.

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Citas Identificadas: 25.0 %
Citas No-identificadas: 75.0 %

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Citas Identificadas: 25.0 %
Citas No-identificadas: 75.0 %

Financiamiento



Fuente
CNICYT, Chile

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Agradecimientos



Agradecimiento
The work is supported by grant ACT-1115, CNICYT, Chile.

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