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Colección SciELO Chile

Editorial: Socially Situated? Effects of Social and Cultural Context on Language Processing and Learning

Indexado

WoS	WOS:000790140900001
Scopus	SCOPUS_ID:85128437817

DOI

10.3389/FPSYG.2022.855733

Año

2022

Tipo

material editorial

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras

Revista	ISSN
Frontiers In Psychology	1664-1078

PlumX	Altmetric	Dimensions

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WOS
Psychology, Multidisciplinary

Scopus
Psychology (All)

SciELO
Sin Disciplinas

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Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

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Ord.	Autor	Género	Institución - País
1	Knoeferle, Pia	-	Humboldt Univ - Alemania Berlin Sch Mind & Brain - Alemania Einstein Ctr Neursci Berlin - Alemania Humboldt-Universität zu Berlin - Alemania Berlin School of Mind and Brain - Alemania Einstein Center for Neurosciences Berlin - Alemania
2	Mishra, Ramesh Kumar	Hombre	Univ Hyderabad - India University of Hyderabad - India
3	PENA-GARAY, MARCELA DE LOURDES	Mujer	Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile Ctr Nacl Inteligencia Artificial - Chile Centro Nacional de Inteligencia Artificial (CENIA) - Chile

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Fuente
Deutsche Forschungsgemeinschaft
Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG, German Research Foundation)
Financiamiento Basal para Centros Cientificos y Tecnologicos de Excelencia de ANID
Centro Nacional de Inteligencia Artificial CENIA

Muestra la fuente de financiamiento declarada en la publicación.

Agradecimiento
We acknowledge that this research was funded by the Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG, German Research Foundation) - SFB 1412, 416591334, Centro Nacional de Inteligencia Artificial CENIA, FB210017, and FINANCIAMIENTO BASAL PARA CENTROS CIENTIFICOS Y TECNOLOGICOS DE EXCELENCIA de ANID to MP.
We acknowledge that this research was funded by the Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG, German Research Foundation) – SFB 1412, 416591334, Centro Nacional de Inteligencia Artificial CENIA, FB210017, and FINANCIAMIENTO BASAL PARA CENTROS CIENTIFICOS Y TECNOLOGICOS DE EXCELENCIA de ANID to MP.

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