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EFFECT OF THIOUREA CONCENTRATION ON THE ELECTROCHEMICAL BEHAVIOR OF GOLD AND COPPER ELECTRODES IN PRESENCE AND ABSENCE OF Cu(II) IONS
Indexado
Scopus SCOPUS_ID:77952331313
SciELO S0717-97072009000400026
DOI 10.4067/S0717-97072009000400026
Año 2009
Tipo artículo de investigación

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras


Abstract



The effect of thiourea (TU) concentration on copper electrodeposition was studied employing cyclic voltammetry and electrochemical crystal quartz microbalance techniques. It was found that the polarization effects are related to the type of species generated in the electrode interface. Due to formation of formamidine disulfde (FDS) at concentrations greater than 10-4 mol dm-3, the electrode surface is blocked, and copper electrodeposition shifts towards more negative potential values (polarizing effect). Lower concentrations favors the formation of Cu(I) -TU contributing to the de-polarization of copper electrodeposition reaction.

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Disciplinas de Investigación



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Chemistry, Multidisciplinary
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Chemistry (All)
SciELO
Exact And Earth Sciences

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Colaboración Institucional



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Autores - Afiliación



Ord. Autor Género Institución - País
GOMEZ-MEIER, CARLOS HUMBERTO Hombre Pontificia Universidad Católica de Valparaíso - Chile
LIZAMA, H. - Pontificia Universidad Católica de Valparaíso - Chile
SUÁREZ, C - Pontificia Universidad Católica de Valparaíso - Chile
VALENZUELA-SOBARZO, ANIBAL Hombre Pontificia Universidad Católica de Valparaíso - Chile

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Financiamiento



Fuente
Fondef

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Agradecimientos



Agradecimiento
Sin Información

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