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Preliminary Studies of Ions Emission in a Small Plasma Focus Device of Hundreds of Joules
Indexado
WoS WOS:000265177700049
Scopus SCOPUS_ID:63849130423
DOI 10.1063/1.3079732
Año 2009
Tipo proceedings paper

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras


Abstract



Ion beam emission in plasma focus (PF) discharges was originally investigated to explain the strong forward anisotropy observed in the neutron. Several properties of PF emitted deuteron beams have been measured, including their angular distributions and energy spectra in devices operating with energies from 1 kJ to 1 MJ. At present there is a growing interest in the development of very small PF devices operating under W. As part of the characterization program of the very low energy PF devices (< 1kJ) developed at the Chilean Nuclear Energy Commission, the charges particle emission in hydrogen (H-2) and mixture (H-2+ %Ar) are being studied. In order to obtain an estimation of the ions energy spectrum and ionization grade, by using time of flight method, a graphite collector system operating in the bias ion collector mode was constructed and it is being used. Preliminary results of the ion beams measurements in different experimental conditions, at a plasma focus device of 400 joules (PF-400J) are presented.

Revista



Revista ISSN
Aip Conference Proceedings 0094-243X

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Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Colaboración Institucional



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Autores - Afiliación



Ord. Autor Género Institución - País
1 MORENO-MARTINEZ, JOSE ALBERTO Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Center for Research on Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
2 PAVEZ-MORALES, CRISTIAN ARTURO Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Center for Research on Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
3 SOTO-NORAMBUENA, LEOPOLDO ALEJANDRO Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Center for Research on Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
4 TARIFENO-SALDIVIA, ARIEL ESTEBAN Hombre Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Universidad de Concepción - Chile
Center for Research on Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
5 Reymond, Piotr Hombre Universidad de Chile - Chile
6 Verschueren, Nicolas Hombre Universidad de Chile - Chile
7 Ariza, Pablo Hombre Universidad de Chile - Chile
8 Hammer, DA -
9 Kusse, BR -

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Financiamiento



Fuente
Bicentennial Program in Science and Technology
Center of Research and Applicatios in Plasma physics and Pulse Power Technology

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Agradecimientos



Agradecimiento
This work is supported by Bicentennial Program in Science and Technology grant ACT26, Center of Research and Applicatios in Plasma physics and Pulse Power Technology, P4. The authors thanks to H. Bhuyan and M.Favre from P. Universidad Catolica de Chile for fruithful discussions.

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