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Scaling, stability, and fusion mechanisms. Studies using plasma focus devices from tens of kilojoules to tenth of joules
Indexado
WoS WOS:000265177700051
Scopus SCOPUS_ID:63849114098
DOI
Año 2009
Tipo proceedings paper

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras


Abstract



Fusion studies using plasma focus devices from tens of kilojoules to less than one joule performed at the Chilean Nuclear Energy Commission are presented. The similarity of the physical behavior and the scaling observed in these machines are emphasized. Experiments on actual devices show that scaling holds at least through six order of magnitude. In particular all of these devices, from the largest to the smallest, keep the same quantity of energy per particle. Therefore, fusion reactions are possible to be obtained in ultraminiature devices (driven by generators of 0.1J), as they are in the bigger devices (driven by generators of 1MJ). However, the stability of the plasma depends on the size and energy of the device.

Revista



Revista ISSN
Aip Conference Proceedings 0094-243X

Disciplinas de Investigación



WOS
Sin Disciplinas
Scopus
Physics And Astronomy (All)
SciELO
Sin Disciplinas

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Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Colaboración Institucional



Muestra la distribución de colaboración, tanto nacional como extranjera, generada en esta publicación.


Autores - Afiliación



Ord. Autor Género Institución - País
1 SOTO-NORAMBUENA, LEOPOLDO ALEJANDRO Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
2 PAVEZ-MORALES, CRISTIAN ARTURO Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
3 TARIFENO-SALDIVIA, ARIEL ESTEBAN Hombre Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Universidad de Concepción - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
4 MORENO-MARTINEZ, JOSE ALBERTO Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
5 Cardenas, Miguel Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
6 Hammer, DA -
7 Kusse, BR -

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Financiamiento



Fuente
Bicentennial Program in Science and Technology
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power
P4

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Agradecimientos



Agradecimiento
This work is supported by Bicentennial Program in Science and Technology, grants PBCT-ACT26, Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power, P4 and PBCT-PSD01.

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