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Colección SciELO Chile

Dependence of Hard X-ray Emissions with the Charging Pressure in a Small Plasma Focus

Indexado

WoS	WOS:000300783000001
Scopus	SCOPUS_ID:84862155764

DOI

10.1007/S10894-011-9455-7

Año

2012

Tipo

artículo de investigación

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras

Abstract

The dependence with the filling pressure of the hard X-ray emission of a 250 J Plasma-Focus device is presented. The study was performed on the range of Hydrogen pressures between 5 and 23 mbar. It was found that the pressure dependence of the hard X-ray intensity presents a maximum at 16.4 mbar. A threshold in the voltage drop on the pinch was observed for the X-ray emission, which agrees with the Dreicer theory for electrons runaway.

Revista

Revista	ISSN
Journal Of Fusion Energy	0164-0313

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Disciplinas de Investigación

WOS
Nuclear Science & Technology

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Sin Disciplinas

SciELO
Sin Disciplinas

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Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Colaboración Institucional

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Autores - Afiliación

Ord.	Autor	Género	Institución - País
1	Barbaglia, M.	Hombre	Universidad Nacl Ctr Prov Buenos Aires - Argentina Universidad Nacional del Centro de la Provincia de Buenos Aires - Argentina Univ Nacl Ctr Prov Buenos Aires - Argentina
2	SOTO-NORAMBUENA, LEOPOLDO ALEJANDRO	Hombre	Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
3	Clausse, Alejandro	Hombre	Universidad Nacl Ctr Prov Buenos Aires - Argentina Universidad Nacional del Centro de la Provincia de Buenos Aires - Argentina Univ Nacl Ctr Prov Buenos Aires - Argentina

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Origen de Citas Identificadas

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Citas Identificadas: 45.45 %
Citas No-identificadas: 54.55 %

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