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Theoretical approach for plasma series resonance effect in geometrically symmetric dual radio frequency plasma
Indexado
WoS WOS:000301504800078
Scopus SCOPUS_ID:84857959649
DOI 10.1063/1.3690870
Año 2012
Tipo artículo de investigación

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras


Abstract



Plasma series resonance (PSR) effect is well known in geometrically asymmetric capacitively couple radio frequency plasma. However, plasma series resonance effect in geometrically symmetric plasma has not been properly investigated. In this work, a theoretical approach is made to investigate the plasma series resonance effect and its influence on Ohmic and stochastic heating in geometrically symmetric discharge. Electrical asymmetry effect by means of dual frequency voltage waveform is applied to excite the plasma series resonance. The results show considerable variation in heating with phase difference between the voltage waveforms, which may be applicable in controlling the plasma parameters in such plasma. (C) 2012 American Institute of Physics. [http://dx.doi.org/10.1063/1.3690870]

Revista



Revista ISSN
Applied Physics Letters 0003-6951

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Disciplinas de Investigación



WOS
Physics, Applied
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SciELO
Sin Disciplinas

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Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Colaboración Institucional



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Autores - Afiliación



Ord. Autor Género Institución - País
1 Bora, Biswajit Hombre Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
2 Bhuyan, Heman - Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
3 FAVRE-DOMINGUEZ, MARIO BENJAMIN Hombre Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
4 WYNDHAM-HODDER, EDMUNDO SYDENHAM Hombre Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
5 CHUAQUI-KETTLUN, HERNAN HUMBERTO - Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile

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Origen de Citas Identificadas



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Citas Identificadas: 21.28 %
Citas No-identificadas: 78.72 %

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Citas identificadas: Las citas provienen de documentos incluidos en la base de datos de DATACIENCIA

Citas Identificadas: 21.28 %
Citas No-identificadas: 78.72 %

Financiamiento



Fuente
FONDECYT
Fondo Nacional de Desarrollo Científico y Tecnológico
Fondo Nacional de Desarrollo Científico y Tecnológico
Proyecto Puente VRI

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Agradecimientos



Agradecimiento
The authors acknowledge the support of the FONDECYT 3110008 and Proyecto Puente VRI No. 06/2011 in undertaking this work.
The authors acknowledge the support of the FONDECYT 3110008 and Proyecto Puente VRI No. 06/2011 in undertaking this work.

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