Colección SciELO Chile

Departamento Gestión de Conocimiento, Monitoreo y Prospección
Consultas o comentarios: productividad@anid.cl
Búsqueda Publicación
Búsqueda por Tema Título, Abstract y Keywords



Investigation on plasma parameters and step ionization from discharge characteristics of an atmospheric pressure Ar microplasma jet
Indexado
WoS WOS:000305835100075
Scopus SCOPUS_ID:84863503128
DOI 10.1063/1.4729339
Año 2012
Tipo artículo de investigación

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras


Abstract



In this communication, we report a technique to estimate the plasma parameters from the discharge characteristics of a microplasma device, operated in atmospheric pressure on the basis of homogeneous discharge model. By this technique, we investigate the plasma parameters of a microplasma jet produced by microplasma device consisting of coaxial capillary electrodes surrounded by dielectric tube. Our results suggest that the complex dependence of electrical discharge characteristics observed for microplasma device operated with Ar or it admixtures probably signify the existence of step ionization, which is well known in inductively coupled plasma. (C) 2012 American Institute of Physics. [http://dx.doi.org/10.1063/1.4729339]

Revista



Revista ISSN
Physics Of Plasmas 1070-664X

Métricas Externas



PlumX Altmetric Dimensions

Muestra métricas de impacto externas asociadas a la publicación. Para mayor detalle:

Disciplinas de Investigación



WOS
Physics, Fluids & Plasmas
Scopus
Sin Disciplinas
SciELO
Sin Disciplinas

Muestra la distribución de disciplinas para esta publicación.

Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Colaboración Institucional



Muestra la distribución de colaboración, tanto nacional como extranjera, generada en esta publicación.


Autores - Afiliación



Ord. Autor Género Institución - País
1 Bora, Biswajit Hombre Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
2 Bhuyan, Heman - Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
3 FAVRE-DOMINGUEZ, MARIO BENJAMIN Hombre Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
4 CHUAQUI-KETTLUN, HERNAN HUMBERTO - Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
5 WYNDHAM-HODDER, EDMUNDO SYDENHAM Hombre Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
6 Kakati, M. - Inst Plasma Res - India
Institute for Plasma Research - India

Muestra la afiliación y género (detectado) para los co-autores de la publicación.

Origen de Citas Identificadas



Muestra la distribución de países cuyos autores citan a la publicación consultada.

Citas identificadas: Las citas provienen de documentos incluidos en la base de datos de DATACIENCIA

Citas Identificadas: 61.54 %
Citas No-identificadas: 38.46 %

Muestra la distribución de instituciones nacionales o extranjeras cuyos autores citan a la publicación consultada.

Citas identificadas: Las citas provienen de documentos incluidos en la base de datos de DATACIENCIA

Citas Identificadas: 61.54 %
Citas No-identificadas: 38.46 %

Financiamiento



Fuente
FONDECYT
Fondo Nacional de Desarrollo Científico y Tecnológico
Fondo Nacional de Desarrollo Científico y Tecnológico
Proyecto Puente VRI

Muestra la fuente de financiamiento declarada en la publicación.

Agradecimientos



Agradecimiento
The authors acknowledge the support of the FONDECYT 3110008 and Proyecto Puente VRI No 06/2011 in undertaking this work.
The authors acknowledge the support of the FONDECYT 3110008 and Proyecto Puente VRI N° 06/2011 in undertaking this work.

Muestra la fuente de financiamiento declarada en la publicación.