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Understanding the insulator conditioning process in fast plasma focus discharges
Indexado
WoS WOS:000307752700060
Scopus SCOPUS_ID:84863620873
DOI 10.1088/1742-6596/370/1/012060
Año 2012
Tipo proceedings paper

Citas Totales

Autores Afiliación Chile

Instituciones Chile

% Participación
Internacional

Autores
Afiliación Extranjera

Instituciones
Extranjeras


Abstract



The presence of metallic deposition and oxides at the surface of insulators used in plasma focus discharges is expected to have a significant effect in the conditioning process that leads to neutrons and hard x-rays emissions. In this work, the atomic concentrations of the main elements present in these insulators are studied by energy dispersive x-ray (EDX) analysis. Preliminary results are presented. Surface oxidation was observed after the conditioning process. A significant concentration of metallic deposition from the anode is observed after a working cycle of a thousand shots.

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Publicaciones WoS (Ediciones: ISSHP, ISTP, AHCI, SSCI, SCI), Scopus, SciELO Chile.

Colaboración Institucional



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Autores - Afiliación



Ord. Autor Género Institución - País
1 TARIFENO-SALDIVIA, ARIEL ESTEBAN Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
2 Ramos Moore, Esteban Hombre Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
3 Ferrari, P. Hombre Pontificia Universidad Católica de Chile - Chile
4 SOTO-NORAMBUENA, LEOPOLDO ALEJANDRO Hombre Comision Chilena de Energia Nuclear - Chile
Centro de Investigacion y Aplicaciones en Fisica de Plasmas y Tecnologias de Potencia Pulsada - Chile
Center for Research and Applications in Plasma Physics and Pulsed Power - Chile
5 Bilbao, L -
6 Minotti, F -
7 Kelly, H -

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Financiamiento



Fuente
Facultad de Fisica, Pontificia Universidad Catolica de Chile and FONDECYT

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Agradecimientos



Agradecimiento
We would like to thank the financial support from Facultad de Fisica, Pontificia Universidad Catolica de Chile and FONDECYT (grant 1110940).

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